離子佈植中心
分機:34317 |
研究方向
本實驗室學術研究的方向,係以離子佈植、加速器分析、電漿應用等尖端科技為主,並以理論模擬與實驗量測為輔,進行一系列基礎科學與工業應用並進的研究,研究重點包括︰超低溫離子佈植的研發、電漿離子佈植於材料表面改質、多原子離子佈植技術於超淺接面半導體元件的製作、聰明切割技術的開發於絕緣體上矽元件的製作、與先進分子動力學法的模擬計算。 |