分機：34317
位置：工科館520W室
參與教授：梁正宏
參考連結：http://www2.ess.nthu.edu.tw/lab/ionlab/new_page_1.htm

本實驗室學術研究的方向，係以離子佈植、加速器分析、電漿應用等尖端科技為主，並以理論模擬與實驗量測為輔，進行一系列基礎科學與工業應用並進的研究，研究重點包括︰超低溫離子佈植的研發、電漿離子佈植於材料表面改質、多原子離子佈植技術於超淺接面半導體元件的製作、聰明切割技術的開發於絕緣體上矽元件的製作、與先進分子動力學法的模擬計算。